Este tipo de litografía está considerada como una importante tecnología intermedia entre la actual tecnología de 193 nanómetros, que se agotará dentro de cuatro a seis años, y las futuras tecnologías de litografía ultravioleta extrema, que no estará disponibles hasta después del 2010.

http://europa.eu/rapid/press-r (...) (...) [HTML] [2001-10-29]

This kind of lithography is considered as an important intermediate technology between the current 193 nanometre technology, which will end in four to six years from now, and future EUV technologies, starting after 2010.

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Se pretende demostrar que la litografía ultravioleta extrema es la tecnología del futuro para la fabricación de circuitos integrados.

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The goal is to demonstrate that EUV lithography is the technology of choice for future production of integrated circuits.

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El objetivo del proyecto EXTATIC es estudiar los aspectos sistémicos de la litografía ultravioleta extrema.

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The objective of the EXTATIC project is to study the system aspects of extreme ultraviolet (EUV) lithography.

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